干法清洗的比较

等离子清洗

UV清洗

外观、大小及操作、维护等

有泵，带真空系统及排气管，大型立式设备；操作、维护等较复杂

常压下工作，无泵，无真空系统及排气管，小型台式或便携式；操作、维护等简易

工作原理

利用紫外线及臭氧氧化有机物以达到表面干法清洗

利用紫外线及臭氧氧化有机物以达到表面干法清洗

工作方式

真空室中氧化并兼以等离子电离、电场轰击

基板加热兼以高浓度臭氧和紫外线照射；可选择处理功能(UV模式,O3模式,UV/O3模式)

达成效果

高效快速，但因电子、离子的轰击会带来表面损伤

可避免表面损伤

应用方面

。BGA,CSP等塑料封装以及引线架的表面清洗

。光学元件,模具等的精密清洗

。有机薄膜等的表面改良

。去除光刻胶

。有机污染层的去除以及粘着性的改善

。光刻胶脱模

。去除光刻胶

。 残留有机物的去除

。油墨去除

。掩模的清洗

适用对象

光刻胶去除

光刻胶残留物去除

均价

较高

较低（$3万）