| 加入桌面 | 手机版
免费发布信息网站
贸易服务免费平台
 
 
当前位置: 贸易谷 » 资讯 » 行业资讯 » 台积电正在针对芯片此前的16nm工艺进行改良

台积电正在针对芯片此前的16nm工艺进行改良

放大字体  缩小字体 发布日期:2017-01-20 10:50  浏览次数:57
   一般来说,芯片的工艺制程决定着处理器的功耗、性能和功耗,更小的工艺尺寸意味着更低的功耗、更强的性能和更少的发热。缩小处理器的工艺尺寸平均时间要两年,目前主流处理器工艺尺寸为14nm-28nm,2017年的旗舰处理器将会是10nm的天下。
 
  近日台积电方面透露,目前正在针对此前的16nm工艺进行改良,这个改良版很有可能将采用12nm工艺制程,这也与其持续针对每一代工艺进行改良的策略相吻合。
 
  据悉,台积电所谓的12nm相比于现在的16nm,具有更高的晶体管集成度、更好的性能、更低的功耗,其升级幅度配得上12nm这个名字,同时也可以更好地用来反击三星、GlobalFoundries、中芯国际等对手的14nm。
 
  目前,台积电16nm工艺已经有多个版本,包括FinFET、FinFET Plus、FinFET Compact等,适用于不同领域。
 
  台积电的下一步是10nm,目前已经进入初步量产阶段,首批重点客户包括苹果A11、华为麒麟970、联发科Helio X30。高通的骁龙835则使用三星10nm。不过,无论是三星还是台积电,10nm工艺的良品率都有待提高,今年的高端芯片供货紧张是一定的了。
分享与收藏:  资讯搜索  告诉好友  关闭窗口  打印本文 本文关键字:
 
推荐图文
赞助商链接
推荐资讯
赞助商链接
 
站内信(0)     新对话(0)