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简介：
美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造，是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。
NANOMAP 500LS三维形貌仪，既有高精密度和准确度的局部（Local）SPM扫描，又具备大尺度和高测量速度；既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌，又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理，在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学，工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。
特点：
1. 针尖扫描采用精确的压电陶瓷驱动扫描模式，三维扫描范围从10μm X 10μm 到500μm X 500μm。样品台扫描使用高级别光学参考平台能使长程扫描范围到50mm。
2. 在扫描过程中结合彩色光学照相机可对样品直接观察。
3. 针尖扫描采用双光学传感器，同时拥有宽阔测量动态范围（最大至500μm）及亚纳米级垂直分辨率（最小０.１nm ）
4. 专业的SPIP分析软件
5. 软件设置恒定微力接触。
6. 简单的2步关键操作，友好的软件操作界面。
产品参数：
1. 纵向分辨率：0.1nm
2. 重复精度：0.54nm（1σ@1000nm ）
3. 接触力 ：0.01mg ~ 100mg
4. 纵向量程：500um or 1000um
5. 探针扫描范围：10um ~ 500um
6. 样品台扫面范围：500um~100mm
7. 采样速率：100Hz
8. 彩色CCD
9. 视场分辨率：512X512 像素
10. 视场放大： 4 级调节 480x480um 到 1.5X1.5mm
11. 自动平台：150mm X 150mm 运动范围
12. 样品台：150mm 直径 ，200mm可选
13. 探针： 标注：2um 曲率半径，100nm接触面积； 0.05~25um曲率可选
14. 标准台阶高度样品，美国NIST标定： 500nm ；100um 两块
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