直读光谱仪、金属元素分析仪、光谱仪、金属分析仪 金属分析仪是我公司引进欧洲技术生产,是目前最先进的国际公认的第二代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的生产工艺控制，炉前化验，中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便，是控制产品质量的理想选择。 主要特点： 1、可测定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,适用于多种金属基体，如：铁基，铝基，铜基，镍基，铬基，钛基，镁基，锌基，锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围，可根据客户需要选择通道元素； 2、分析速度快捷，20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及标线，使仪器用最短的时间达到最优的分析效果； 3、光学系统采用非真空恒温光室， 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室，实现光路直通,消除了光路损耗，提高检出限，测定结果准确，重现性及长期稳定性极佳； 4、特殊的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半； 5、自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线，与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定； 6、开放式的电极架设计，可以调整的样品夹，便于各种形状和尺寸的样品分析； 7、工作曲线采用国际标样，预做工作曲线，可根据需要延伸及扩展范围，每条曲线由多达几十块标样激发生成，自动扣除干扰； 8、HEPS固态光源，适应各种不同材料 ； 9、固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性； 10、铜火花台底座，提高散热性及坚固性能； 11、合理的氩气气路设计，使样品激发时氩气冲洗时间缩短，为用户节省氩气，氩气消耗不到普通光谱仪的一半； 12、采用钨材料电极，电极使用寿命更长，并设计了电极自吹扫功能，清洁电极更加容易； 13、高性能DSP及ARM处理器，具有超高速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块 的运行状况； 14、仪器与计算机之间采用以太网连接，抗干扰性能好，外部计算机升级与仪器配置无关，使仪器具有更好的适用性； 15、核心器件全部原装进口，保证了仪器优秀卓越的品质。 产品参数指标： 光学系统 光学结构 帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统 光室温度 自动控制恒温：35℃±0.5℃ 波长范围 160-800nm 光栅焦距 350 mm 光栅刻线 2160 l/mm 一级光谱线色散率 1.2 nm/mm 探测器 多块高性能线阵CCD 平均分辨率 10pm/pixel 激发台 气体 冲氩式 氩气流量 激发时3-5L/min， 待机时:无须待机流量 电极 钨材喷射电极技术 吹扫 点击自吹扫功能 补偿 热变形自补偿设计 分析间隙 样品台分析间隙：4mm 激发光源 类型 HEPS固态光源 频率 100-1000Hz 放电电流 1-80A 特殊技术 放电参数优化设计 预燃 高能预燃技术 数据采集系统 处理器 高端ARM处理器，高速数据同步采集处理 接口 基于DM9000A的以太数据传输 电源与环境要求 输入 220VAC 50Hz 功率 分析时最大700W，待机状态40W 工作温度 10-30℃（该温度范围内温度变化不大于5℃/h） 工作湿度 20-80% 尺寸与重量 尺寸 800*450*500 mm 重量 85Kg