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半导体评测机构Chipworks指出其14纳米制程将芯片的电晶体鳍片间距做得为紧密，真正达到了14纳米，而非台积电与三星的宣称的16纳米/14纳米，事实上仅有Intel20纳米的程度；Chipworks的测验结果也证实了其电晶体效能均其他竞争对手。但晶圆代工着重的不只是制程──产量、良率与背后的一连串支援服务，才是晶圆代工真正的关键价值链，对此张忠谋也指出英特尔并不是专业晶圆代工，只是把脚伸到池里试水温，并道：「相信英特尔会发现水是很冰冷的」。

锅炉点火
1、查阅运行和（或）交接班记录。
2、巡视、检查锅炉内、外部。
3、检查主要附件。阀、水位表、压力表，要严密、可靠、灵敏。
4、检查水处理设备。
5、检查给水设备和汽水系统管道。各阀门按启动的要求。
6、检查供油设备。上述检查工作合格之后，即可启动锅炉。

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要按照特色社会市场经济的总体要求，找到“市场在资源配置中起决定性作用”和“更好发挥作用”的衡点，充分发挥企业的主体作用和的引导作用，着力解决制约新材料产业发展的瓶颈环节。要求，办公室各成员单位间要加强沟通衔接、协同合作，共同推动我国新材料产业发展。发展改革委、科技部、等办公室副主任单位，、人力资源社会保障部等23家成员单位相关负责人参加了会议并发言。工业和信息化部办公厅、规划司、政策法规司等12个司局参加了会议。

启动锅炉
1、观察水位表内的水位，若出现水位有上升或下降的现象，则应检查给水阀和排污阀的开、关位置是否正确或泄漏。
2、当压力升到1公斤力（厘米2）表压时，应冲洗水位表。冲洗水位表的顺序：
①打开汽水旋塞，冲洗汽水连管；
②关闭水旋塞，冲洗汽连管；
③打开水旋塞，冲洗汽水连管；
④关闭汽旋塞，冲洗水连管；
⑤打开汽旋塞，冲洗汽水连管；
⑥关闭汽水旋塞，使水位恢复正常。
如果水位迅速上升，并有轻微波动，表明水位正常；如果水位上升很缓慢，表明水位表有堵塞现象，应重新冲洗和检查。

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3、当压力升到2公斤力（厘米2）表压时，冲洗压力表存水弯管。
4、当压力升到3公斤力（厘米2）表压时，检查受压部件各连接处有无渗漏现象，对松动过的螺丝再拧紧一次。为了防止螺丝拧断，用力不宜过猛并不允许手柄方法紧固螺丝。
5、当压力升到4公斤力（厘米2）表压时，进行一次排污，以均衡各部分炉水温度。排污前先进水至高水位，排污时注意观察排污管道周围情况，并随时观察水位，排污后关严排污阀，并检查有无漏水现象。
6、当压力升到工作压力2/3时，进行暖管（暖管的目的：使蒸汽管道、阀门、法兰等都受到均匀缓慢的加热并放去管内的凝结水，以防止管道内产生水击而发生渗漏等。暖管时间约半小时左右）操作：
①开启管道上的疏水阀，排除全部凝结水。
②缓慢开启主汽阀半圈，待管道充分预热后再全开。如管道发生震动或水击，应立即关闭主汽阀，加强疏水，待震动消除后，再慢慢开启主汽阀，继续进行暖管。
③慢慢开启分汽缸进汽阀，使管道汽压与分汽缸汽压相等，同时注意排除凝结水。
④直至排出干燥蒸汽后，关闭所有疏水阀，全开主汽阀。各汽阀全开后，应回转半圈，防止汽阀因受热膨胀后卡住。

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在培训方面，可利用培训台及APP，这样可以大幅降低维修企业的培训成本，并利用员工碎片化的时间进行培训学，提高学效率。如何寻求技术支持——维修企业无需建立自己的团队，只需依托一个技术支持团队即可，把专业的事情交给专业的人来解决。维修企业只需关心这个团队的技术实力和时效性。同时，利用行业相关APP解决区域内高端人才本店化的问题，提高维修效率。维修行业技术信息的复杂性、培训和技术支持的专业性和高投入，一般维修企业不可能也没有必要建立一个庞大的系统来支持单体企业的运行。
7、当汽压升到工作压力时，就可直接进行供汽。
锅炉正常运行时，必须随时调节汽压、水位、油位，以及进行排污（排污的目的：①排除炉水表面悬浮泡沫。降低炉水含盐和含碱量，防止发生汽水共腾，保证蒸汽品质；②排出积聚在锅筒和下集箱底部的泥渣和污垢）。
（1）、锅炉在运行中应做到均衡给水，尽可能保持水位在正常范围。
（2）、在负荷较大时，可能会出现水位。如负荷突增时水位可能会出现先上升再下降现象，而负荷突降时，出现先下降再上升现象。因此，在和水位时，要注意判断这种暂时的假水位，以免误操作。
（3）、在锅筒和下集箱底部的排污管上串联安装二只排污阀，靠近锅炉和集箱的一只为慢开阀，另一只为快开阀，排污时应先开启慢开阀，后微开快开阀，预热管道后再全开。为使排污效果更佳，可开关快开阀数次。排污结束后，先关闭快开阀，再关闭慢开阀，后再开一下快开阀将两阀门之间的存水放净。排污注意事项：
①排污前先将炉水调至高于正常水位，排污时要严格水位，防止因排污造成的锅炉缺水。排污后间隔一段时间，用手摸排污阀后的排污管道来检验排污阀是否泄漏，如感觉热，表明排污阀泄漏，应查明原因后加以消除。
②本着“勤排、少排、均匀排”的原则，每班至少排污一次，对所有的排污管须轮流进行排污，防止炉水品质恶化和排污管堵塞，甚至引起水循环和爆管事故。
③排污要在低负荷、正常工作压力时进行。此时锅水沸腾缓和，渣污易沉淀，排污效果好。
④排污操作应开关重复数次，依靠反冲击力使渣垢搅拌起，然后集中排出，这样排污效果好。

厂家：荆州模块锅炉诚信商家而随着LED芯片供不应求，相应地LED外延片也将“水涨船高”。此次特奉上相关机构的LED外延片产业发展相关报告，希望给业内一个参考。外延片处于LED产业链中的上游环节，包括原材料、衬底材料及设备这三大领域。在LED外延片生长、芯片、芯片封装这三个环节中，外延片生长投资要占到70％，外延片成本要占到封装成品的70％。LED原材料包括镓单晶、氮化铝单晶等，它们大部分是III—V族化合物半导体单晶，生产工艺比较成熟，其他材料还有金属高纯镓。

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