一、概述：本装置是我公司和武汉工程大学等离子体化学与新材料重点实验室联合研制。装置由微波源、真空系统、供气系统、冷却水系统、微波传输及微波谐振腔组成；由微波源产生的频率为2.45GHz的微波，沿BJ22矩形波导管以TE10模式传输，经过调整短路活塞，最后在水冷谐振腔反应室内激励气体形成轴对称的等离子体球；在基材（如硅片、玻璃）上完成微波等离子体化学气相沉积法制备各种功能薄膜材料（如BN薄膜、金刚石薄膜、氮化碳薄膜等）、微波等离子体刻蚀加工实验、材料表面改性、微波等离子体清洗材料表面、微波等离子体化学合成等实验；适合大学物理、材料、化学等领域的学生实验及教师科学研究。二、特点：◆无内部电极，可避免放电污染，运行气压范围宽，能量转换效率高，可产生大范围的高密度等离子体。◆设有垂直交叉的两个方向的透明观察窗，可直观观察等离子体的放电特性。◆微波等离子体刻蚀精度达到亚微米级。制备各种功能薄膜材料的速率较快。三、技术参数及性能：1、微波源：功率0~800W连续可调输出；2、真空系统：采用旋片真空泵，单相220V交流电源，极限真空6 0.01帕，抽速2升/秒，额定转速1400转/分；真空计采用数显压阻式真空计和热偶真空计联合作用，用于测量本底真空和工作时的工作气压。真空密封采用金属和橡胶密封；真空调节采用隔膜阀粗调和微调阀精细调节，调节快速方便、稳定性好。3、供气系统：有两路独立供气气路，通过转子流量计控制流量。4、自带冷却水循环系统形成冷却水。制冷系统可保证冷却水温度在25度以下，无水源要求。5、微波传输及微波谐振腔：配有环行器、水负载和三螺钉阻抗调配器，可保证微波源的安全工作；配有微波反射测量系统，保证等离子体最大限度地吸收微波能。反应室工作压强：几帕～十千帕；反应室极限压强：6 0.01帕；真空反应室石英管腔体尺寸： 50mm；基片温度范围：200～1000℃，通过热电偶测量基片温度并通过冷却水来调节基片温度；电磁波功率：0～800W；接地线＜3