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产品特点
・降低通态电阻70%(注3),达到业内最高水平的低损耗。
・结合最新降低开关损耗的技术, 352PBA21A1TNNA4 使元器件总损耗降低14%(注4)。
3.主要规格(代表机型)
额定电压(V) |
额定电流(A) |
通态电阻(Ω) |
封装 |
上市时期 |
600V |
20A |
0.19 |
TO-220F,TO-22O |
即日 |
30A |
0.125 |
2012年 4月 |
||
47A |
0.07 |
TO-3P,TO-247 |
2012年 4月 |
|
68A |
0.04 |
TO-247 |
2012年 4月 |
4. 352PBA21A1TNNA4 主要用途
・服务器、不间断电源、播放设备等信息通信设备;
・面向太阳能电力调节器等新能源领域的电力变换装置等。
注1 352PBA21A1TNNA4 ,金属氧化物半导体场效应管。
注2 SJ结构:电荷非平衡Superjunction结构
其特点是,由于是使MOSFET的耐压层的p区和n区交互存在的结构,可使n区的杂质浓度提高,所以可大幅度降低阻值。
以往面状结构的MOSFET,由于是通过向高阻抗的n层延展电绝缘区(过流层)来确保耐压水平的,因此通态电阻无法降至一定值以下。
而SJ结构,是通过在n区形成p区,这既可以在纵向又可在横向延展过流层,因此,即使n层阻抗下降,依然可以确保耐压水平。据此, 352PBA21A1TNNA4 可实现超过以往面状结构理论极限的低通态电阻。
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