光刻胶配方技术生产制备工艺专利大全01、化学放大正性光刻胶组合物02、化学增强型光刻胶组合物03、光刻胶组合物04、去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法05、适用于产酸物的树脂和含有该树脂的化学放大正性光刻胶组合物06、光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案形成方法07、用于光刻胶的抗反射组合物08、光刻胶聚合物、光刻胶组合物及制造半导体装置的方法09、光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物10、光刻胶组合物,薄膜图案形成方法、TFT阵列面板制造方法11、用于深紫外的光刻胶组合物及其工艺12、用于光刻胶的阻挡涂敷组合物及使用该组合物形成光刻胶图形的方法13、光刻胶组合物和使用方法14、光刻胶液制备方法及使用该光刻胶液的光刻胶膜15、具有多环内脂结构单元的聚合物在深紫外光刻胶中的应用16、浸液曝光用正型光刻胶组成物及光刻胶图案的形成方法17、包含具有螺环缩酮基团的单体的光刻胶聚合物及其组合物18、制备化学放大正性光刻胶用树脂的方法19、用于形成液浸曝光工艺用光刻胶保护膜的材料、以及使用该保护膜的光刻胶图案形成方法20、含硅偶联剂的193nm光刻胶及其成膜树脂21、光刻胶稀释剂的制造方法22、含硅193nm负性光刻胶及其成膜树脂23、光刻胶组合物24、光刻胶聚合物组合物25、增强光刻胶黏性的无定形碳层26、微光刻技术用光刻胶组合物中的溶解抑制剂27、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法28、193nm远紫外光刻胶及其制备方法29、用于改进临界尺寸计算中使用的光刻胶模型的校准的方法、程序产品以及设备30、包括金刚形烃衍生物的光刻胶组合物31、用于从衬底去除光刻胶的方法和设备32、深紫外正性光刻胶及其成膜树脂33、含有树脂掺合物的光刻胶组合物34、正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法35、化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法36、含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶37、从光刻胶和/或剥离液中回收有机化合物的方法38、光刻胶成膜树脂制备中的聚合物选择水解方法39、使用光刻胶层来形成多重导线连接的方法40、涂布膜的加热装置和光刻胶的处理装置41、光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物42、光刻胶用抗反射组合物43、改善蚀刻后光刻胶残余的半导体器件制造方法44、光刻胶保护膜用组合物、光刻胶保护膜及光刻胶图形形成方法45、光刻胶的去除46、光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法47、用于去除光刻胶的组合物及利用该组合物形成图案的方法48、采用负性光刻胶组合物形成电镀产品的方法以及在该方法中使用的光敏组合物49、光刻胶涂覆装置及其方法50、脱除衬底上光刻胶的方法51、光刻胶保护膜形成用材料以及使用该材料的光刻胶图案的形成方法52、用叠层光刻胶牺牲层制备MEMS悬空结构的方法53、用来与外涂的光刻胶一起使用的涂料组合物54、与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物55、光刻胶去除剂组合物以及用该组合物形成布线结构和制造薄膜晶体管基片的方法56、用于去除半导体器件的改性光刻胶的光刻胶去除剂组合物57、光刻胶液供给装置及用于得到它的改造套件58、用于去除光刻胶的组合物59、用于涂覆光刻胶图案的组合物60、利用具有热流动特性的负光刻胶层制造半导体的方法61、用于有机硅化物玻璃的一氧化二氮去除光刻胶的方法62、在光刻胶去除过程中最小化阻障材料损失的方法63、与外涂的光刻胶一起使用的涂层组合物64、利用具有碳层的传输掩模构图晶片上的光刻胶的方法65、光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法66、涂料组合物、抗反射膜、光刻胶及采用该光刻胶的图形形成方法67、用于涂敷光刻胶的装置和方法68、软烘焙基板上的光刻胶的装置和方法69、用于剥离光刻胶的组合物及薄膜晶体管阵列面板制造方法70、化学放大型光刻胶组合物71、使用具有多层ARC的反射掩模在晶片上图案化光刻胶的方法72、利用衰减的相移掩模图案化晶片上的光刻胶的方法73、与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物74、化学放大型正型光刻胶组合物75、控制光刻胶组合物溶解速率差的方法76、用于光刻胶的感光树脂组合物77、用于在制造半导体器件等中分配光刻胶的方法和设备78、氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用79、具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料80、用于深UV的光刻胶组合物及其成像方法81、适合用来除去光刻胶、光刻胶副产物和蚀刻残余物的组合物及其应用82、光刻胶组合物及用它形成薄膜图案的方法以及用它制备薄膜晶体管阵列板的方法83、双层光刻胶干法显影的方法和装置84、交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法85、含有包括氟磺酰胺基团的聚合物的正型光刻胶组合物及其使用方法86、化学放大型正光刻胶组合物87、除去光刻胶和蚀刻残渣的方法88、包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物89、光刻胶层中减小图案尺寸的方法90、纳米压印光刻胶91、去除光刻胶和蚀刻残留物的方法92、光刻胶膜除去装置和光刻胶膜除去方法及有机物除去装置和有机物除去方法93、光刻胶除去装置和光刻胶除去方法94、稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法95、包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物96、一种化学放大型正光刻胶组合物97、正性光刻胶的制作方法98、光刻胶剥离剂组合物99、用于液晶设备的正型光刻胶组合物100、聚合物和含有该聚合物的光刻胶101、氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶102、一种光刻胶涂敷装置103、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法104、磺酸盐和光刻胶组合物105、用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底106、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法107、微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂108、光刻胶修整方法109、正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法110、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法111、化学放大型正光刻胶组合物及其树脂112、光刻胶三维刻蚀过程模拟的动态元胞自动机方法113、适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末114、负性深紫外光刻胶115、一种用于正性或负性光刻胶的清洗剂组合物116、带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系117、包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物118、磺酸盐和光刻胶组合物119、光刻胶图案增厚材料，光刻胶图案形成工艺和半导体器件制造工艺120、用于微型平板印刷术的多环含氟聚合物及光刻胶121、聚合物中的保护基,光刻胶及微细光刻的方法122、聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用123、负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法124、光刻胶掩模及其制作方法125、光刻胶沉积设备以及使用该设备形成光刻胶薄膜的方法126、短波成像用溶剂和光刻胶组合物127、光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法128、用于深紫外光刻术的光刻胶组合物129、衬底处理和光刻胶曝光方法130、光刻胶组合物、层压材料、图案形成方法和制造半导体器件的方法131、含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物132、微刻用光刻胶组合物中的溶解抑制剂133、适于光刻胶组合物的聚合物134、用于光刻胶的感光树脂组合物135、集成电路制造技术中可消除光刻中光刻胶毒化的工艺136、化学放大型光刻胶组合物137、负作用水性光刻胶组合物138、化学放大型正光刻胶组合物139、光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法140、氟化聚合物,光刻胶和用于显微光刻的方法141、化学增强型正光刻胶组合物142、含有氧和硫脂环族单元的聚合物和包含该聚合物的光刻胶组合物143、用于光刻胶的抗反射涂料144、光刻胶组合物145、使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣146、用于液晶设备的正型光刻胶组合物147、聚合物和含有该聚合物的光刻胶148、氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶149、一种光刻胶涂敷装置150、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法151、磺酸盐和光刻胶组合物152、设计图形、光掩模、光刻胶图形及半导体器件的制造方法153、用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底154、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法155、微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂156、光刻胶修整方法157、正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法158、光刻胶残渣去除剂159、光刻胶膜去除方法及其所用装置160、产生粒子少的光刻胶组合物的制造方法161、制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法162、光刻胶洗涤组合物163、水溶性负性光刻胶组合物164、具有腈和脂环族离去基团的共聚物和包含该共聚物的光刻胶组合物165、化学放大型正光刻胶组合物166、化学增强型正光刻胶组合物和锍盐167、用于正性光刻胶的混合溶剂体系168、光刻胶及微平版印刷术169、化学放大型正光刻胶组合物170、经分馏的线型酚醛清漆树脂和由其得到的光刻胶组合物171、用于193纳米波长的正性光刻胶组合物172、化学放大型正光刻胶组合物173、化学增强型正光刻胶组合物和锍盐174、含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物175、用于深紫外线光刻胶的防反射组合物176、环状烯烃聚合物和添加剂的光刻胶组合物177、化学增强型正光刻胶组合物178、化学增强型光刻胶179、改善光刻胶耐刻蚀性的方法180、包含具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物181、含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物182、环烯烃聚合物与疏水性非甾族脂环添加剂的光刻胶组合物183、含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物184、用于多层光刻胶方法的热固性聚酯防反射涂料185、用于高光敏度高抗蚀厚涂层i－线光刻胶的磺酰肟类186、一种化学增强型正光刻胶组合物187、包含新的光活性化合物的正性光刻胶188、用于光刻胶组合物的抗反射涂料组合物及其用途189、分级酚醛清漆树脂共聚物以及由其得到的光刻胶组合物190、厚膜光刻胶的低温金属化制备方法191、含缩聚物的光刻胶组合物192、一种形成光刻胶图形的方法193、在集成电路生产中清洗光刻胶的组合物194、光刻胶组合物,其制备方法和用其形成图纹的方法195、正性光刻胶组合物的热处理方法196、含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物197、光刻胶组合物用的水性抗反射涂料198、光敏树脂组合物和用于生产印刷电路板的光刻胶油墨199、改善光刻胶耐蚀刻性的方法200、含有环烯烃聚合物及饱和甾族添加剂的光刻胶组合物201、光刻胶用剥离液组合物202、光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法203、用于深紫外线辐射的光刻胶组合物204、化学放大型正性光刻胶组合物205、化学增强光刻胶及一种光刻胶合成物206、光刻胶剥离剂组合物207、具有酸反应性基团的新颖含氟聚合物以及使用这些材料的化学增幅型光刻胶组合物208、光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法209、光刻胶去除剂混合物210、负作用化学放大的光刻胶组合物211、环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸生成剂和光刻胶212、光刻胶剥离组合物及清洗组合物