操作压力 3（Mpa） 水电阻率 5-18.25兆欧 出水量 1-100t/h 外形尺寸 设计而定（cm） 电压 380（V） 水质 超纯水 功率 设计而定（w） 电导率 10us/cm 脱盐率 99.99（%） 单机出力 设计而定（/h） 一、应用范围概述：电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产　配料用纯水黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片二、典型工艺流程预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺) 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺) 预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥17MΩ.CM） (最新工艺) 预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺) 处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)三、达到标准 显像管、液晶显示器用纯水水质（经验数据） 集成电路用纯水水质 国家电子级纯水标准 美国SEMI标准四、设备特点 为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。