、应用领域

1．抛光：用于制备CMP抛光液，用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、宝石、液晶玻璃、镜头、金属表面等产品的抛光。

2．催化剂载体、数码印刷等。
二、性能指标
指标名称
型号及标准

LS30
LS60
LS80
LS100
LS140
粒径（nm）
20-40
60-80
80-100
100-120
140-160
SiO2含量(重量)
30-40%
30-50%
Na2O含量(重量)
≤0.4%
分散介质
水
pH值
2-11可调
分散状态
单分散
胶粒形态
球型
保质期（月）
≥12
三、产品特点

1．粒径分布窄（±10nm），球形胶粒，结构致密。

2．纯度高，金属离子含量低。

3．可根据用户要求设定粒径大小、浓度、PH值、离子含量等指标。