全自动电化学CV分布仪CVP21本设备适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上，　例如：Silicon,Germanium,III-VincludingIII-Nitrides.CVP21的净室和模块化的系统设计结构使得本系统可以高效率，准确的测量半导体材料（结构，层）中的掺杂浓度分布．选用合适的电解液与材料接触，腐蚀，从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制提供免费样品测试并提供测试报告。保修期：2年，终身维修。对用户承诺终身免费样品测试每月1次