用途	用水指标	参考标准
单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产	电阻率15 ~18.25 M .CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标
单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业	电阻率15 ~18.25 M .CM	美国半导体工业用纯水指标我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水	电阻率10 ~17 M .CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标
蓄电池、锂电池、锌锰电池生产	电阻率5 ~10 M .CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997
有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水	电阻率15 ~18.25 M .CM	我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997美国半导体工业用纯水指标

主要工艺流程和出水指标：※预处理 反渗透 离子交换器（电阻率 15M .CM）※预处理 二级反渗透 EDI（电阻率 15M .CM）※预处理 二级反渗透 脱气膜 EDI 抛光混床（电阻率 18.25M .CM）详细工艺需根据原水设计情况进行设计纯水设备的主要特点

▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定； ▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全； ▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全； ▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，全方位满足需求。▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。